Kobaltsilizidpulver zeichnet sich durch einen niedrigen spezifischen Widerstand und eine gute thermische Stabilität aus und wird hauptsächlich für großformatige integrierte Schaltkreise verwendet. Darüber hinaus weist Kobaltsilizid eine siliziumähnliche Kristallstruktur auf, die die Bildung epitaktischer CoSi2/Si-Strukturen auf Siliziumsubstraten ermöglicht
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